Министерство промышленности и торговли Российской Федерации выделило 2,4 миллиарда рублей на разработку отечественного сканирующего электронного микроскопа для точного измерения критических параметров на полупроводниковых пластинах. Это оборудование должно заменить японскую технику Hitachi, поставки которой в Россию ограничены из-за санкций.
Проект направлен на создание промышленно-ориентированного CD‑SEM‑микроскопа, способного контролировать пластины диаметром 100, 150 и 200 мм. Основная задача – создание опытного образца для пластин диаметром 200 мм, который будет использоваться для неразрушающего контроля ширины линий, размеров контактных отверстий, межэлементных расстояний и других ключевых параметров на кремниевых пластинах.
Техническое задание четко ориентировано на зарубежные аналоги Hitachi CD‑SEM S‑9380 и CG4000. При этом все ключевые компоненты будущей российской системы, такие как электронная пушка, электронно-оптическая колонна, рабочая камера, вакуумные насосы, механизмы загрузки и выгрузки пластин, контроллер и программное обеспечение, должны быть произведены в России. Иностранные компоненты разрешены только в исключительных случаях и с согласования Министерства промышленности и торговли. Завершение работ запланировано на июнь 2030 года.
Источники: ixbt.com
распечатать статью
