В России запатентован метод глубокой очистки нанопорошка для микроэлектроники. Это изобретение открывает новые возможности для использования частиц в производстве микросхем.
В октябре 2026 года сотрудники научно-исследовательской лаборатории инженерной химии Национального исследовательского института химии Университета Лобачевского зарегистрировали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния для микроэлектроники. Параллельно был разработан метод комплексного управления свойствами этих наночастиц.
Технология обеспечивает получение наночастиц с заданными параметрами: строго определенными размером и формой, высокой однородностью, стабильностью и минимальным содержанием примесей. Эти характеристики критически важны для применения в производстве микросхем.
Ученые Университета Лобачевского ведут исследования в рамках стратегического проекта «Новые материалы для микроэлектроники» федеральной программы «Приоритет‑2030» с 2024 года. На 16 октября 2026 года проект находится на стадии опытно-технологической отработки. Основные исследования по подбору состава и условий синтеза уже завершены. Сейчас основное внимание уделяется проверке стабильности технологии при масштабировании и испытаниям полученных материалов совместно с индустриальным партнером.
Ксения Отвагина, кандидат химических наук и научный сотрудник лаборатории, объяснила, что новое изобретение связано с очисткой аморфного диоксида кремния. Его предполагается использовать в химико-механической полировке полупроводниковых пластин и в процессах, требующих применения высокочистых абразивных наноматериалов.
Специалисты Национального исследовательского Нижегородского государственного университета имени Н.И. Лобачевского разработали технологическую линию и регламент производства продукта. В результате была создана устойчивая суспензия, которая будет апробирована индустриальным партнером.
Из-за ограничений на поставки возникла острая необходимость в отечественных аналогах, которые по своим характеристикам не уступали бы зарубежным продуктам. Размер, форма и однородность наночастиц напрямую влияют на качество обработки пластин, что, в свою очередь, определяет надежность и производительность электронных устройств. Разработка отечественных материалов с контролируемыми параметрами, начатая с 2026 года, является важным шагом для развития российской микроэлектроники и снижения зависимости от иностранных поставщиков, отметила Ксения Отвагина.
Олег Трофимов, ректор ННГУ имени Н.И. Лобачевского, подчеркнул, что создание отечественной базы компонентов для микроэлектроники – одна из приоритетных задач. Запатентованная технология демонстрирует, как академическая наука отвечает на вызовы времени и потребности индустрии. По словам Трофимова, цель – обеспечить полный цикл разработки, от фундаментальных исследований до серийного производства. Успешное масштабирование процесса и начало испытаний с индустриальным партнером подтверждают правильность выбранного направления, добавил он.
Источник: cnews.ru
распечатать статью
